Tai E International Patent & Law Office
taie.com.twtaie.com.twLawyers
AKIRA S. J. LIN
Work Department
Japanese Patent Division
Position
Assistant Manager
Career
Certificate:Patent Attorney (Cert. No. A0740), admitted 2020
Specialization:
Machine Building Mechanics of Machinery Mechanical Automation Ceramic Circuit Board Ceramic Condenser Semiconductor Devices Semiconductor Manufacturing Process Image Display Devices Projector Vehicle Parts Household GoodsAuthor:
日本意匠審查基準修訂簡介(中),台一專利商標雜誌第233期,民國109年11月。 台湾知的財産局は、意匠の審査基準について、図面の記載要件の緩和、分割要件の緩和、画像の意匠の保護拡充などの改訂を行い、2020年11月1日に施行することを発表,民國109年10月26日。 台湾知的財産局は、意匠の審査基準について、図面の記載要件の緩和、分割要件の緩和、保護対象の拡充などの改訂が行われる予定を2020年8月31日に発表,民國109年9月3日。 日本意匠審查基準修訂簡介(上),台一專利商標雜誌第233期,民國109年9月。 Focus on the research of “teaching away” - Centered on the examination guidelines and judgments of Taiwan, Japan, and the United States タイトル:台湾特許侵害鑑定要点とはどのような性質を持つかについて。Experience:
Quality Control, GVision Incorporated Sales, Kanto Taiwan Corporation Patent Engineering Training Program, Taiwan Intellectual Property Training AcademyLanguages
Japanese, English, Chinese
Education
LL.M. Graduate Institute of Intellectual Property, National Taipei University of Technology, Taiwan
B.A. Practical Japanese, Tamkang University, Taiwan
B.A. Applied Foreign Languages, Chienkuo Technology University, Taiwan